連續格氏反應裝置CSTR

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更新時間：2025-10-23
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簡要描述：連續格氏反應裝置CSTR：巖征以自動化技術為核心優勢，專注于多通道固定床反應器、高通量催化劑評價裝置、實驗室反應裝置、微型反應釜、實驗室高壓反應釜、成套連續反應裝置等領域，為化工、科研、環保、制藥、醫療多個行業客戶提供成套設備和一體化解決方案。

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產品詳情

品牌	巖征儀器	產地類別	國產
應用領域	綜合

連續格氏反應裝置CSTR

連續格氏反應裝置是專為格氏反應（Grignard reaction）設計的連續化生產設備，通過集成精準進料、高效混合、溫控及無水無氧保障系統，解決傳統間歇反應中安全性差、產率波動大等問題，廣泛應用于醫藥、農藥及精細化工的碳 - 碳鍵構建過程。

其核心結構包括：雙柱塞進料系統（分別輸送鹵代烴溶液與鎂粉懸浮液，流量精度 ±0.5%）、微通道混合反應器（通道尺寸 0.5-2mm，材質為哈氏合金或藍寶石，耐溶劑腐蝕）、分段式溫控模塊（-40℃至 60℃可調，溫差控制 ±1℃）、在線脫水脫氣單元（配備分子篩干燥柱與惰性氣體保護回路）及產物淬滅系統（連續注入氯化銨水溶液終止反應）。關鍵安全組件含壓力傳感器（量程 0-2MPa）與緊急排空閥，響應時間 < 0.1 秒。

工作時，經嚴格干燥的鹵代烴（如溴苯）與鎂粉 - 懸浮液按 1:1.05 摩爾比連續注入微通道，在湍流作用下形成微米級液固混合（比表面積達 5000m2/m3），于 30-40℃下快速生成格氏試劑（如苯基溴化鎂），停留時間控制在 10-60 秒。生成的格氏試劑直接進入后續反應段與羰基化合物（如苯甲醛）連續反應，全程在氮氣保護下進行（氧含量 < 5ppm，水含量 < 10ppm），避免試劑分解。相較于間歇反應，連續體系的放熱速率可通過通道壁面及時移除，溫度波動小于 ±2℃，杜絕局部過熱引發的溶劑暴沸。

連續格氏反應裝置CSTR

應用領域表現突出：醫藥合成中用于抗抑郁藥舍曲林中間體的連續制備，格氏反應收率達 96%，較間歇工藝提升 12%，且批次間純度偏差 < 0.5%；農藥領域適配擬除蟲菊酯前體的生產，通過連續化實現從氯代烴到醇的一步轉化，生產效率較傳統釜式反應提高 3 倍；精細化工中用于液晶材料的碳鏈延長反應，產物順反異構體比例可通過停留時間精準調控（偏差 < 2%）。

其顯著優勢在于：微通道強化傳質使格氏試劑生成速率提升 5-8 倍，單套設備日產能可達 50-500kg；反應體積僅為傳統間歇釜的 1/100，大幅降低溶劑揮發與火災風險（符合 ATEX 防爆標準）；通過在線監測與反饋調節，可將副產物（如聯苯）含量控制在 0.5% 以下；無水無氧閉環系統使試劑穩定性提高，保質期從間歇反應的 4 小時延長至連續生產的穩定輸出。作為有機合成連續化的關鍵設備，其實現了高風險反應的安全可控生產，為精細化學品規?；苽涮峁┝烁咝脚_。

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